Установка предназначена для проведения процессов плазмохимического травления в плазме емкостного разряда. Оптимизированное охлаждение электродов совместно с точным контролем температуры подложки обеспечивают высокую повторяемость процесса.
Основные свойства:
- Компактное исполнение, позволяющее сэкономить место в лаборатории или в производственном помещении
- Охлаждение и нагрев могут быть реализованы с использованием жидкого азота, чиллера или нагревателя типа ТЭН (опционально может быть добавлен блок продувки и замены жидкости для автоматизации режимов работы)
- Высокая производительность вакуумного насоса обеспечивает широкий диапазон рабочих давлений от 5 до 500 мТорр
- Для обеспечения стабилизации температуры образца (пластины, подложки) используется прижим с газовой гелиевым «подушкой» с обратной стороны подложки
- Возможность подачи напряжения смещения от 30 до 800 В …
- Вакуумная камера оснащена фланцем для присоединения загрузочного шлюза
- Возможность добавления опции загрузки «из кассеты в кассету»
- Возможность объединения разного типа установок в единый кластер
- Система цифрового управления позволяет полностью автоматизировать техпроцесс
Область применения:
Процессы травления A3B5 полупроводников, твёрдотельные лазеры, вертикально излучающие лазеры, высокочастотные устройства, алмазоподобные плёнки, процессы травления SiO2 и кварца, травление металлов, травление полимеров
