Технологии

Физическое осаждение из газовой фазы (PVD)

Лазерная абляция (PLD)

Импульсное магнетронное распыление высокой мощности (HiPIMS)

Реактивное магнетронное распыление с плазменным ассистированием (PARMS)

9.AcademVac-PRO

Метод электронно-лучевого испарения в PVD: физика и применение

Термическое испарение в PVD-процессах: физические основы и типы испарителей

magnetronnoe-raspylenie

Метод магнетронного распыления в PVD-технологиях: от физики процесса до инженерных решений

kamera-dlya-magnetronnogo-napyleniya

Реактивное магнетронное распыление (RMS)

otkrytaya-kamera-dlya-magnetronnogo-napyleniya

Магнетронное распыление с системой питания постоянного тока (DC PVD)

tipichnaya-vakuumnaya-kamera-v-rabote

Высокочастотное (ВЧ) магнетронное распыление (RF PVD)

magnetronnoe-raspylenie

Магнетронное распыление: ведущая технология формирования тонкопленочных покрытий

Физическое осаждение из газовой фазы (PVD)

Химическое осаждение из газовой фазы (CVD)

Химическое осаждение из паров металлоорганических соединений (MO CVD)

Индуктивно-связанная плазма в CVD-процессах: принципы и технологии PECVD ICP

Химическое осаждение из газовой фазы, стимулированное плазмой (PE CVD)

на главную осаждение

Химическое осаждение из газовой фазы (CVD)

Ионное травление

Реактивное ионное травление (RIE)