Основные свойства:
- Вакуумная камера в форме призмы, с большой передней дверью на регулируемых петлях обеспечивает удобный доступ ко всем технологическим источникам
- Размер камеры может варьироваться в зависимости от требуемой загрузки и размера подложек
- Полностью безмасляная система вакуумной откачки, включающая высоковакуумный криогенный и форвакуумный спиральный насосы, позволяет добиться максимальной чистоты техпроцесса (по запросу тип вакуумных насосов может быть изменён)
- На нижней плите камеры может быть размещено до 2-х электронно-лучевых испарителей
- Положкодержатель купольного и/или планетарного типа позволяет наносить покрытия на образцы диаметром до 200 мм (конструкция подложкодержателя может быть модифицирована по запросу)
- Использование масок позволяет добиться однородности покрытия (от образца к образцу) до 1% по всему подложкодержателю
- Термический резистивный испаритель может быть добавлен по запросу
- Нагреватель типа ТЭН позволяет нагреть образцы до 300 °С
- Ассистирующий ионный источник End-Hall позволяет проводить дополнительную очистку подложек, а также получать плотные плёнки, слабо подверженные изменениям окружающей среды
- Система цифрового управления позволяет полностью автоматизировать техпроцесс, увеличивая производительность и точность нанесения покрытий
Область применения:
Датчики, оптические системы для объективов, микроскопы, телескопы, лазерная оптика, покрытия для ультрафиолетового диапазона, покрытия для инфракрасного диапазона, интерференционные фильтры.