Основные свойства
- Полностью безмасляная система вакуумной откачки, включающая высоковакуумный турбомолекулярный и форвакуумный спиральный насосы, позволяет добиться максимальной чистоты техпроцесса (по запросу тип вакуумных насосов может быть изменён)
- Размер камеры может варьироваться в диапазоне от 300 до 500 мм в зависимости от требуемой загрузки и размера подложек
- Использование эксимерного лазера с длиной волны от 10 до 1000 пс позволяет эффективно осуществить абляцию материала мишени, создавая потоки частиц высокой энергии
- Регулируемая продолжительность лазерного импульса от 10 пикосекунд до наносекунд
- Система смены испаряемого материала позволяет создавать многослойные покрытия. Может быть использовано до 3 материалов
- Система цифрового управления позволяет полностью автоматизировать техпроцесс
Область применения
Получение металлических, полупроводниковых и диэлектрических плёнок, нано- и микроэлектроника, применение в области солнечной энергии, оптических покрытий, получения тонкоплёночных датчиков, магнитных тонкопленочных устройств.
Изготовление пленок редкоземельных метал-барий-медь оксидов для многослойных лент высокотемпературных сверхпроводников, создание безводородных алмазоподобных покрытий с высокой адгезией, создание Sc:AlN плёнок для радиочастотных фильтров, производство кристаллических плёнок на больших подложках для микро- и нано- электроники.
