Основные свойства:
- Полностью безмасляная система вакуумной откачки, включающая высоковакуумный турбомолекулярный и форвакуумный мембранный насосы, оставаясь предельно компактной и простой в обслуживании, позволяет добиться максимальной чистоты техпроцесса
- Вакуумная камера может иметь несколько вариантов исполнений, в зависимости от задач заказчика
- Материал вакуумной камеры: боросиликатное стекло, металл: нерж. сталь, алюминий (по согласованию с заказчиком)
- Нагреватель типа ТЭН позволяет нагреть образцы до 300 °С
- Ионный источник с анодным слоем для ассистирования и для очистки подложек может быть добавлен по запросу
- Система цифрового управления позволяет полностью автоматизировать техпроцесс
Область применения:
Исследования полупроводников и создание компаундов, металлизация образцов для электронного микроскопа, анализ отказа полупроводниковых изделий, напыление контактов, нанотехнологии, контроль качества и обеспечение качества продукции.
